នៅក្នុងការផលិត semiconductor ម៉ាស៊ីន photolithography គឺជាឧបករណ៍សំខាន់ដែលកំណត់ភាពជាក់លាក់នៃបន្ទះសៀគ្វី ហើយមូលដ្ឋានថ្មក្រានីតជាមួយនឹងលក្ខណៈជាច្រើនរបស់វាបានក្លាយជាធាតុផ្សំដែលមិនអាចខ្វះបាននៃម៉ាស៊ីន photolithography ។
ស្ថេរភាពកំដៅ៖ "ប្រឡោះ" ប្រឆាំងនឹងការផ្លាស់ប្តូរសីតុណ្ហភាព
នៅពេលដែលម៉ាស៊ីន photolithography ដំណើរការវាបង្កើតបរិមាណកំដៅច្រើន។ សូម្បីតែការប្រែប្រួលសីតុណ្ហភាពត្រឹមតែ 0.1 ℃អាចបណ្តាលឱ្យខូចទ្រង់ទ្រាយនៃសមាសធាតុឧបករណ៍ និងប៉ះពាល់ដល់ភាពត្រឹមត្រូវនៃ photolithography ។ មេគុណនៃការពង្រីកកំដៅនៃថ្មក្រានីតមានកម្រិតទាបបំផុត មានតែ 4-8 ×10⁻⁶/℃ ដែលស្មើនឹង 1/3 នៃដែក និង 1/5 នៃលោហធាតុអាលុយមីញ៉ូម។ នេះអនុញ្ញាតឱ្យមូលដ្ឋានថ្មក្រានីតរក្សាស្ថេរភាពវិមាត្រនៅពេលដែលម៉ាស៊ីន photolithography ដំណើរការក្នុងរយៈពេលយូរ ឬនៅពេលដែលសីតុណ្ហភាពបរិស្ថានផ្លាស់ប្តូរ ដោយធានាបាននូវទីតាំងច្បាស់លាស់នៃសមាសធាតុអុបទិក និងរចនាសម្ព័ន្ធមេកានិច។
មុខងារប្រឆាំងនឹងរំញ័រដ៏អស្ចារ្យ៖ "អេប៉ុង" ដែលស្រូបយករំញ័រ
នៅក្នុងរោងចក្រ semiconductor ប្រតិបត្តិការនៃឧបករណ៍ជុំវិញ និងចលនារបស់មនុស្សអាចបង្កើតរំញ័រ។ ថ្មក្រានីតមានដង់ស៊ីតេខ្ពស់ និងវាយនភាពរឹង ហើយវាមានលក្ខណៈសម្បត្តិជ្រាបទឹកយ៉ាងល្អឥតខ្ចោះ ជាមួយនឹងសមាមាត្រសំណើមពី 2 ទៅ 5 ដងនៃលោហធាតុ។ នៅពេលដែលរំញ័រខាងក្រៅត្រូវបានបញ្ជូនទៅមូលដ្ឋានថ្មក្រានីត ការកកិតរវាងគ្រីស្តាល់រ៉ែខាងក្នុងបំប្លែងថាមពលរំញ័រទៅជាថាមពលកំដៅសម្រាប់ការសាយភាយ ដែលអាចកាត់បន្ថយរំញ័រក្នុងរយៈពេលដ៏ខ្លី ដែលអនុញ្ញាតឱ្យម៉ាស៊ីន photolithography ស្តារស្ថេរភាពបានយ៉ាងឆាប់រហ័ស និងជៀសវាងភាពមិនច្បាស់ ឬការតម្រឹមនៃលំនាំ photolithography ដោយសារតែរំញ័រ។
ស្ថេរភាពគីមី៖ "អាណាព្យាបាល" នៃបរិស្ថានស្អាត
ផ្នែកខាងក្នុងនៃម៉ាស៊ីន photolithography មានទំនាក់ទំនងជាមួយប្រព័ន្ធផ្សព្វផ្សាយគីមីផ្សេងៗ ហើយសម្ភារៈលោហៈធម្មតាងាយនឹង corrosion ឬការបញ្ចេញភាគល្អិត។ ថ្មក្រានីតត្រូវបានផ្សំឡើងដោយសារធាតុរ៉ែដូចជា រ៉ែថ្មខៀវ និងហ្វែលស្ប៉ា។ វាមានលក្ខណៈសម្បត្តិគីមីមានស្ថេរភាព និងធន់នឹងច្រេះខ្លាំង។ បន្ទាប់ពីត្រាំក្នុងដំណោះស្រាយអាស៊ីត និងអាល់កាឡាំង ការច្រេះលើផ្ទៃគឺតូចខ្លាំងណាស់។ ទន្ទឹមនឹងនេះ រចនាសម្ព័ន្ធក្រាស់របស់វាបង្កើតស្ទើរតែគ្មានកំទេចកំទី ឬធូលី ដែលបំពេញតាមតម្រូវការនៃស្តង់ដារអនាម័យខ្ពស់បំផុត និងកាត់បន្ថយហានិភ័យនៃការចម្លងរោគ wafer ។
ដំណើរការអាដាប់ធ័រ៖ "សម្ភារៈដ៏ល្អ" សម្រាប់ការបង្កើតស្តង់ដារច្បាស់លាស់
សមាសធាតុស្នូលនៃម៉ាស៊ីន photolithography ចាំបាច់ត្រូវដំឡើងនៅលើផ្ទៃយោងដែលមានភាពជាក់លាក់ខ្ពស់។ រចនាសម្ព័ន្ធខាងក្នុងនៃថ្មក្រានីតមានលក្ខណៈឯកសណ្ឋាន ហើយវាងាយស្រួលក្នុងការកែច្នៃឱ្យមានភាពជាក់លាក់ខ្ពស់តាមរយៈការកិន ប៉ូលា និងបច្ចេកទេសផ្សេងៗទៀត។ ភាពរាបស្មើរបស់វាអាចឡើងដល់ ≤0.5μm/m ហើយភាពរដុបលើផ្ទៃ Ra គឺ ≤0.05μm ដែលផ្តល់នូវមូលដ្ឋាននៃការដំឡើងច្បាស់លាស់សម្រាប់សមាសធាតុដូចជា កែវអុបទិក។
អាយុកាលវែង និងការថែទាំដោយឥតគិតថ្លៃ៖ "ឧបករណ៍មុតស្រួច" សម្រាប់ការកាត់បន្ថយថ្លៃដើម
បើប្រៀបធៀបជាមួយនឹងវត្ថុធាតុដែកដែលងាយនឹងអស់កម្លាំង និងប្រេះក្នុងការប្រើប្រាស់រយៈពេលយូរ ថ្មក្រានីតស្ទើរតែមិនឆ្លងកាត់ការខូចទ្រង់ទ្រាយប្លាស្ទិក ឬបាក់ឆ្អឹងក្រោមបន្ទុកធម្មតា ហើយវាមិនតម្រូវឱ្យមានការព្យាបាលលើផ្ទៃទេ ដូច្នេះហើយជៀសវាងហានិភ័យនៃការរបក និងការចម្លងរោគនៃថ្នាំកូត។ នៅក្នុងការអនុវត្តជាក់ស្តែង បន្ទាប់ពីបានប្រើប្រាស់អស់ជាច្រើនឆ្នាំ សូចនាករប្រតិបត្តិការសំខាន់ៗនៃមូលដ្ឋានថ្មក្រានីតនៅតែអាចរក្សាបាននូវស្ថេរភាព ដោយកាត់បន្ថយប្រតិបត្តិការ និងថ្លៃថែទាំឧបករណ៍។
ពីស្ថេរភាពកម្ដៅ ភាពធន់នឹងរំញ័រទៅនឹងភាពអសកម្មគីមី លក្ខណៈជាច្រើននៃមូលដ្ឋានថ្មក្រានីតបំពេញតាមតម្រូវការរបស់ម៉ាស៊ីន photolithography យ៉ាងល្អឥតខ្ចោះ។ នៅពេលដែលដំណើរការផលិតបន្ទះឈីបបន្តអភិវឌ្ឍឆ្ពោះទៅរកភាពជាក់លាក់ខ្ពស់ជាងមុន មូលដ្ឋានថ្មក្រានីតនឹងបន្តដើរតួនាទីដែលមិនអាចជំនួសបាននៅក្នុងវិស័យផលិតកម្ម semiconductor ។
ពេលវេលាផ្សាយ៖ ឧសភា-២០-២០២៥